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蚀刻机和光刻机区别 蚀刻机与光刻机有何区别

来源: 最后更新:22-06-13 04:30:26

导读:蚀刻机和光刻机区别,刻蚀机和光刻机的区别如下:1、工艺不同:刻蚀机是将硅片。上多余的部分腐蚀掉,光刻机是将图形刻到硅片上。2、难度不同:光刻机的难度和精度大于刻蚀机。

刻蚀机和光刻机的区别如下:

1、工艺不同:刻蚀机是将硅片。上多余的部分腐蚀掉,光刻机是将图形刻到硅片上。

2、难度不同:光刻机的难度和精度大于刻蚀机。

标签: 光刻  硅片  难度  区别  精度  

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